刘小勤
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黄凤祥
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曾冬铭
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黄发军
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刘中兴
电镀与涂饰
采用恒电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜.研究了沉积电位、8-羟基喹啉浓度、NaOH浓度、沉积时间等工艺条件对薄膜耐蚀性的影响.分别采用盐水周浸泡试验、三氯化铁缝隙试验和Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性.采用扫描电镜表征了聚8-羟基喹啉薄膜的表面形貌.恒电位法沉积的最佳工艺条件为:8-羟基喹啉2 mmol/L,NaOH 0.4 mol/L,电位0.5 V,时间300 s,室温.采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性略优于循环伏安法试样,远优于空白工件.
关键词:
镀镍层
,
8-羟基喹啉
,
薄膜
,
聚合
,
电沉积
,
恒电位法
,
耐蚀性
